نظام الكتابة بالليزر وتنظيف الحواف من لفة إلى لفة

معدات تنظيف الحواف بالليزر من لفة إلى لفة

مجال التطبيق:
تنظيف حواف الخلايا الشمسية الرقيقة باستخدام الليزر.

السمات الهيكلية:

• تصميم ثلاثي المحطات يتضمن آلية فك اللف، ووحدة معالجة الليزر، وآلية إعادة اللف

• وحدات تنظيف الحواف مثبتة على هيكل جسري ثابت، مع إشعاع من السطح العلوي المطلي

• نظام بصري قادر على تنظيف الحواف في وقت واحد باستخدام ليزرات متعددة ووحدات بصرية

• نظام تحكم آلي متكامل للغاية، ونظام معالجة بصرية، ونظام تصوير لضمان التشغيل المستقر والموثوق

  
  

مزايا المنتج:

• محاور متعددة لتنظيف الحواف يتم التحكم بها بشكل مستقل ووحدات بصرية مع إعدادات معلمات مرنة - لا يوجد تداخل متبادل أثناء التشغيل المتزامن لتحقيق كفاءة عالية

• منفذ تجميع غبار مستقل من النوع التالي يتميز بأداء ممتاز في إزالة الغبار

• يضمن نظام الكشف عن الحواف وتحديد المواقع ثلاثي الرؤية دقة موضعية أعلى في تنظيف الحواف

  
  

التطبيقات النموذجية:
في إنتاج الخلايا الشمسية الرقيقة، تُستخدم هذه المعدات لإزالة المواد أو الطلاءات الزائدة من حواف الخلية، مما يُحسّن أداء الخلية وجودتها بشكل ملحوظ. على سبيل المثال:

1. خطوط الإنتاج الضخمة: تُمكّن من تنظيف الحواف بسرعة وكفاءة عالية في منشآت التصنيع واسعة النطاق من خلال الاستفادة من قدرتها على التشغيل المتزامن متعدد المحاور/متعدد الوحدات

2. معالجة دقيقة: يضمن نظام تحديد المواقع ثلاثي الرؤية دقة تصل إلى مستوى الميكرون لعمليات معالجة الحواف الحساسة.

3. التصنيع المرن: قابل للتكيف مع تصميمات مختلفة للخلايا الشمسية ذات الأغشية الرقيقة (مثل CIGS وCdTe) مع إعدادات معلمات قابلة للتخصيص لمواد الطلاء المختلفة

4. الإنتاج النظيف: يحافظ نظام تجميع الغبار المتكامل على بيئات معالجة نظيفة مع تلبية معايير الانبعاثات الصناعية.

تتميز هذه المعدات بشكل خاص بما يلي:

• بيئات الإنتاج عالية الإنتاجية التي تتطلب اتساقًا في تنظيف الحواف بنسبة 95%

• تتطلب الخلايا الشمسية من الجيل التالي دقة معالجة حواف أقل من 50 ميكرومتر

• خطوط الإنتاج الآلية التي يكون فيها التكامل السلس مع عمليات الإنتاج السابقة واللاحقة أمراً بالغ الأهمية